TSMC, 4억 달러 High-NA EUV 노광기 도입 확정… 2033년 양산 투입 목표 - TSMC는 '아직 쓸모없다'고 이야기 해오던 4억 달러 규모의 High-NA EUV 노광기 도입을 확정, 2030년부터 도입하여 2033년까지 첨단 공정 양산을 목표로 설정 - High-NA EUV 노광기는 기존 Low-NA 대비 해상도를 높이지만, 단일 공정당 노광 면적이 절반으로 줄어드는 단점. - ASML과 협력하여 6인치에서 12인치로 광마스크 크기를 키우는 방식으로 이 단점을 해결했으며, 이를 통해 생산성을 높여 비용 효율성을 확보할 계획. - 이번 광마스크 크기 변경은 관련 장비 및 소재 공급망 전체의 변화를 요구하며, 초기에는 해외 업체 주도로 개발이 진행될 것. → 마스크/펠리클 관련 기업, 마스크 검사 기업 등등이 또 새 제품 개발로 분주해질 것 같습니다.